K&F Concept 77mm Nano-X Series Ultra-Low Reflection CPL Filter

Ultražemo atspindžio apskritasis poliarizacinis filtras

K&F Concept 77mm Nano-X Series Ultražemo atspindžio apskritasis poliarizacinis (CPL) filtras sukurtas pagerinti jūsų fotografiją pašalinant nepageidaujamus atspindžius ir sustiprinant spalvų kontrastą. Su ultražemu 0,1% atspindžio lygiu, šis filtras žymiai sumažina objektyvo atspindžius ir halogeninius efektus, suteikdamas aiškesnius, didesnio kontrasto vaizdus su sodresnėmis detalėmis.

Pagrindinės savybės

• Ryškūs vaizdai: Pašalina atspindžius nuo nemetalo paviršių, tokių kaip vanduo ir stiklas, sustiprina spalvų sodrumą ir kontrastą, suteikdamas patrauklias nuotraukas.
• Ultražemas atspindys: Atspindžio lygis kontroliuojamas iki 0,1%, veiksmingai mažina objektyvo atspindžius ir halogeninius reiškinius. Pašalina 99,9% poliarizuotos šviesos ir pasižymi 45% dideliu pralaidumu, užtikrinančiu ryškius, aiškius vaizdus.
• Tinka plataus kampo ir teleobjektyvams: Ultra plonas 5,3 mm storis išlaiko ploną objektyvo profilį, neleidžia atsirasti vignetavimui plataus kampo objektyvuose ir leidžia tiksliai reguliuoti poliarizaciją sklandžiai sukant filtrą.
• Pažangios dangos: Dvigubos 28 sluoksnių dangos atsparios vandeniui, aliejui, dulkėms ir įbrėžimams. Filtras pagamintas iš importuoto optinio AGC stiklo, užtikrinančio kristalinį aiškumą.
• Atspari konstrukcija: Pagamintas iš lengvo aliuminio ir magnio lydinio rėmo, užtikrinančio ilgaamžiškumą ir atsparumą nusidėvėjimui.
• Suderinamumas: Sukurtas objektyvams su 77 mm sriegio dydžiu. Vartotojai turėtų patikrinti savo objektyvo skersmenį (dažniausiai žymimą simboliu "ø") prieš pirkdami.